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丘钛微申请“一种用于提升滤光片良率的工艺方法

作者:大熊空间发布时间:2024-07-13 06:30分类: 浏览:55评论:0


导读: 金融界 2024 年 7 月 12 日消息,天眼查知识产权信息显示,昆山丘钛微电子科技股份有限公司申请一项名为“一种用于提升滤光片良率的工艺方法及滤光片“,公开号 CN20241...

金融界 2024 年 7 月 12 日消息,天眼查知识产权信息显示,昆山丘钛微电子科技股份有限公司申请一项名为“一种用于提升滤光片良率的工艺方法及滤光片“,公开号 CN202410497628.0,申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示,本发明提供了一种用于提升滤光片良率的工艺方法及滤光片,方法包括:提供玻璃基底;在所述玻璃基底的一侧面镀设有 AR 增透膜;在所述玻璃基底的另一侧面上镀设有红外截止膜;对镀膜后的玻璃基底进行丝印处理;利用预设的喷涂工艺对丝印处理后的玻璃基底的两侧面喷涂保护层;所述保护层用于保护所述AR 增透膜和所述红外截止膜;如此,为了降低 AR 膜层和红外截止膜层被划伤的概率,在玻璃基底的两侧面进行镀膜后,又在玻璃基底的两侧面喷涂上保护层;这样在后续工艺步骤中对玻璃基底进行处理时,由于有保护层可以保护 AR 膜层和红外截止膜层,因此可以降低膜层被划伤的概率,从而提高滤光片的良率。

本文源自:金融界

作者:情报员


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